隨著晶片結(jié)構(gòu)變得更加復(fù)雜,晶片濕法清洗工藝在半導(dǎo)體制造中變得越來(lái)越重要。事實(shí)上,Absolute Ozone? 已開(kāi)發(fā)出可靠且有效的系統(tǒng),使半導(dǎo)體臭氧和 ALD 成為濕法清潔和光刻膠去除方法的有吸引力的替代方案。
與 RCA 清潔技術(shù)相比,臭氧/水清潔工藝成本更低且更環(huán)保。臭氧不再僅僅在半導(dǎo)體應(yīng)用中具有科學(xué)意義。它可以在晶圓和 IC 制造過(guò)程中提供實(shí)際的好處。
半導(dǎo)體清洗應(yīng)用中的臭氧是一種環(huán)保且具有成本效益的解決方案,適用于先進(jìn)的晶圓清洗。臭氧的一些優(yōu)點(diǎn)是減少用水量和消除昂貴的化學(xué)產(chǎn)品。此外,該行業(yè)可以使用臭氧水剝離光致抗蝕劑并消除金屬和微粒污染。
使用 ABSOLUTE OZONE? 的四個(gè)原因 | 臭氧發(fā)生器是半導(dǎo)體臭氧和 ALD 的好選擇
高濃度臭氧 – Absolute Ozone 提供當(dāng)高性能臭氧發(fā)生器(高達(dá) 22%/重量),而成本僅為競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的一小部分。事實(shí)上,注入的臭氧濃度越高,反應(yīng)時(shí)間越快,處理和生產(chǎn)的響應(yīng)時(shí)間也就越快。
風(fēng)冷式臭氧——當(dāng)今市場(chǎng)上大多數(shù)高濃度輸出范圍的臭氧發(fā)生器使用水冷技術(shù)運(yùn)行。水冷通常不便于維護(hù),需要擦洗和定期清潔以保持制造商指定的性能。在 Absolute Ozone,我們開(kāi)發(fā)了一種高效且更經(jīng)濟(jì)的方式,使用空氣冷卻技術(shù)無(wú)縫提供高臭氧濃度,經(jīng)證實(shí)比水冷更具成本效益。
保修 – 與其他產(chǎn)品不同,在 Absolute Ozone,我們保證我們的產(chǎn)品性能。不支持有關(guān)產(chǎn)品性能的聲明已成為普遍做法。在 Absolute Ozone,我們采取更加透明的方法。事實(shí)上,我們提供了清晰的性能圖表供客戶參考,我們創(chuàng)造了一個(gè)運(yùn)行良好的產(chǎn)品。如果我們發(fā)送給您的臭氧發(fā)生器未按規(guī)定運(yùn)行,我們將退還您的款項(xiàng)。
提供定制壓力選項(xiàng)——我們與許多半導(dǎo)體、IC 和 ALD 工藝客戶密切合作,多年來(lái)我們了解到,行業(yè)中確實(shí)可能存在標(biāo)準(zhǔn)。因?yàn)楫a(chǎn)品要求可能因項(xiàng)目而異。在 Absolute Ozone,我們消除了圍繞產(chǎn)品定制項(xiàng)目的壓力。如果需要并根據(jù)要求,我們可以根據(jù)您現(xiàn)有的系統(tǒng)和參數(shù)提供具有自定義壓力設(shè)置的產(chǎn)品,該設(shè)置適合您或您的客戶。
Absolute Ozone? 將很樂(lè)意為您提供幫助。
主要特征:
臭氧比 RCA 清潔技術(shù)便宜。
臭氧是一種環(huán)保且具有成本效益的解決方案,適用于先進(jìn)的晶圓清洗。
減少用水量
消除昂貴的化學(xué)產(chǎn)品