Absolute Ozone板式臭氧發(fā)生器，無論您需要用于臭氧水處理的工業(yè)臭氧發(fā)生器、用于工業(yè)的商用臭氧發(fā)生器，還是高級(jí)氧化系統(tǒng)、半導(dǎo)體ALD應(yīng)用，我們都能為您提供完美的解決方案。
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臭氧濃度高
臭氧濃度可達(dá)到300mg/L，是半導(dǎo)體、藥物合成、土壤處理的理想選擇。 -
風(fēng) 冷
在+40C的溫度下也能很好地工 作，無需支付水，空調(diào)和空調(diào) 系統(tǒng)的費(fèi)用。 -
耐高壓
20-80 PSIG可變壓力模型，是土壤修復(fù)應(yīng)用或無法達(dá)到穩(wěn)定氧氣壓力的理想選擇。 -
體積小
臭氧產(chǎn)量在30-100g/h范圍內(nèi)的 Absolute Ozone發(fā)生器的尺寸 僅為35.5*38*17.8cm。
探索 ABSOLUTE OZONE? 先進(jìn)的板式臭氧發(fā)生器
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工業(yè)臭氧應(yīng)用
在 Absolute Ozone，我們意識(shí)到在當(dāng)今市場(chǎng)上實(shí)施先進(jìn)技術(shù)的重要性以及它如何使我們的客戶受益。Absolute Ozone? 臭氧發(fā)生器可以以高達(dá) 350 g/Nm3 的速率和高達(dá) 12%（重量）的濃度轉(zhuǎn)化氧氣。 -
臭氧實(shí)驗(yàn)室和半導(dǎo)體
臭氧氣體具有高反應(yīng)性，可以有效分解多種污染物。在半導(dǎo)體制造中，臭氧氣體用于通過將硅晶片暴露于基于臭氧的清潔溶液來去除硅晶片表面的污染物。溶液中的臭氧與污染物發(fā)生反應(yīng)并將其分解，使表面清潔無雜質(zhì)。 -
臭氧空氣和土壤修復(fù)
從氣味控制到土壤修復(fù)。臭氧技術(shù)可去除空氣中的病毒、細(xì)菌、孢子和許多其他污染物。最近，臭氧已被用于土壤修復(fù)，以清理含有各種土壤污染物的場(chǎng)地。
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Nano 15臭氧發(fā)生器驗(yàn)機(jī)發(fā)貨
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Nano15臭氧發(fā)生器完成維修
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Atlas H30 臭氧發(fā)生器到貨通知
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氧化層生長(zhǎng)臭氧設(shè)備現(xiàn)場(chǎng)
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TITAN100 臭氧發(fā)生器維修檢測(cè)現(xiàn)場(chǎng)
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Atlas H30 高濃度臭氧發(fā)生器用于分子束延長(zhǎng)mbe
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TITAIN100臭氧發(fā)生器用于化工合成現(xiàn)場(chǎng)
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TITAN H30 機(jī)架式臭氧發(fā)生器調(diào)試現(xiàn)場(chǎng)
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NANO15臭氧發(fā)生器如何使用（視頻）
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Atlas H30與NANO15臭氧發(fā)生器到貨，已經(jīng)過測(cè)試