臭氧圖書館
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原子層沉積（ALD）工藝使用臭氧發生器優勢有哪些
原子層沉積（ALD）工藝使用臭氧發生器優勢有哪些在原子層沉積（ALD）工藝中使用臭氧具有多方面的優勢，這種工藝是一種精密薄膜沉積技術，廣泛應用于半導體、光電子器件、納米技術等領域。使用臭氧作為氧化劑在ALD工藝中具有以下優勢：高質量薄膜沉積： 臭氧作為氧化劑，能夠提供高質量的氧原子源，與金屬有機前體分子反應，形成氧化物...Read more -
電暈放電臭氧發生器產臭氧流程
電暈放電臭氧發生器產臭氧流程電暈放電臭氧發生器是一種利用電暈放電技術產生臭氧的設備，其工作原理主要包括以下幾個步驟：1. 氧氣供應：首先，從外部提供含氧氣體的供氧管道，將氧氣送入到臭氧發生器中。2. 電場產生：在臭氧發生器內部設置兩個電極，通過高壓電源對電極施加高電壓，形成電場。其中一個電極為帶有尖端的錐形電極（尖端電...Read more -
臭氧發生器如何用于PLD呢
臭氧發生器如何用于PLD呢在PLD技術中，臭氧發生器通常是作為PLD系統的一個配套設備，與激光脈沖系統、靶材供給系統和基板控制系統等配合工作，共同完成薄膜生長的工作。下面是一個簡要的PLD工作流程及配套設備的描述：激光脈沖系統：PLD系統的核心部件之一是激光脈沖系統，它產生高能量的激光脈沖用于瞬間蒸發靶材。激光的能量和...Read more -
用于原子層沉積 (ALD)的臭氧發生器
用于原子層沉積 (ALD)的臭氧發生器臭氧發生器在原子層沉積（ALD）中具有重要的應用，ALD是一種高精度的薄膜沉積技術，可以在納米尺度上實現單層膜的沉積，具有在微電子、光電子、生物醫學等領域廣泛應用的優勢。臭氧發生器在ALD中的應用主要是提供高純度的臭氧氣體，用于氧化反應和清洗步驟，下面將從原理、應用和優勢等方面進行...Read more -
板式臭氧發生器使用空氣源的缺點
板式臭氧發生器使用空氣源的缺點在Absolute Ozone，我們經常收到有關使用常規空氣作為原料氣而不是高濃度氧氣來操作臭氧發生器的詢問。在臭氧發生器中使用普通空氣作為原料氣很初似乎是一個明智的決定，但從長遠來看，它有幾個顯著的缺點會影響性能、效率和成本。1. 電極沉降和臭氧產量下降一個主要問題來自普通空氣中的氮含量...Read more -
Absolute Titan100臭氧發生器維修現場
Absolute Titan100臭氧發生器維修現場問題：該款為Absolute titan100 板式臭氧發生器，使用1年半，臭氧發生器CLD屏提示內部被污染，可能進水或者其他物質，無法正常工作。解決：我們對臭氧放電模塊進行了拆卸，清理，更換了放電板，對電路板進行了檢查，運行已正常。進口設備如果出現故障，維修是個問...Read more -
Nano臭氧發生器：適用于各種應用的強大而高效的工具
Nano臭氧發生器：適用于各種應用的強大而高效的工具Nano臭氧發生器是一種緊湊高效的臭氧發生器，可在低氧流速下產生高濃度的臭氧。它非常適合需要高臭氧濃度的應用，例如水處理、地下水修復、水產養殖、冷卻塔、谷物處理、除臭、廢水處理、制藥和食品加工。Nano臭氧發生器的特點：僅用 4 LPM 氧氣產生 15 g/hr 的臭...Read more -
臭氧用于糧食儲存
臭氧用于糧食儲存與昆蟲、害蟲、嚙齒動物和真菌等生物有關或由這些生物造成的糧食儲存損失，以及溫度或濕度等物理而非生物因素造成的糧食儲存損失，導致全球糧食儲存損失超過8000萬公噸。大多數時候，磷化鋁被用于熏蒸，盡管它可能是危險的。此外，昆蟲和害蟲已經對磷化氫產生了抗性。其他熏蒸劑，如羰基硫化物、甲酸乙酯、氰化氫、碘化甲酯...Read more -
在臭氧系統中，靜態混合器或傳質反應器是否值得投資?
在臭氧系統中，靜態混合器或傳質反應器是否值得投資?我們經常收到客戶來信詢問靜態混合器的效率。為了幫助大家更好地理解這些類型的設備，我想分享一些信息，并提供一些關于靜態混合器或傳質反應器在臭氧系統中是否值得投資的見解。靜態混合器作為創新和經濟的解決方案，用于溶解水中的臭氧。盡管如此，在購買之前還是應該檢查它們的功效。奇怪...Read more -
什么是臭氧產量和臭氧濃度?
什么是臭氧產量和臭氧濃度?臭氧發生器的性能通過其濃度(% wt或g/m3)和產量(g/hr)來衡量。這兩項測量都很關鍵。但它們是什么意思呢?臭氧產量指的是一段時間內產生的臭氧質量，單位為克每小時。這顯然與發生器入口的氧氣/空氣流量密切相關。臭氧濃度可以通過將總原料氣除以總臭氧生產量(g/m3或重量%)來計算。例如，讓我...Read more -
在原子層沉積（ALD）工藝中使用臭氧的優勢
在原子層沉積（ALD）工藝中使用臭氧的優勢用于原子層沉積的臭氧 – 它是如何工作的？原子層沉積是一種薄膜沉積技術，可精確控制厚度。它廣泛應用于半導體儲能、生物醫學、光學和其他高科技行業。這種分子層沉積技術基于通過在基板表面上的連續化學反應在原子尺度上精確和受控地生長超薄膜。原子層沉積的基本原理是交替將基板暴露于兩種或多...Read more -
用于半導體和 ALD 的臭氧
隨著晶片結構變得更加復雜，晶片濕法清洗工藝在半導體制造中變得越來越重要。事實上，Absolute Ozone? 已開發出可靠且有效的系統，使半導體臭氧和 ALD 成為濕法清潔和光刻膠去除方法的有吸引力的替代方案。與 RCA 清潔技術相比，臭氧/水清潔工藝成本更低且更環保。臭氧不再僅僅在半導體應用中具有科學意義。它可以在...Read more -
臭氧發生器的工作原理和運用領域的功效
在市場上關于臭氧發生器的工作原理與工藝各具特點，根據不同的研發技術，產生的效果和凈化原理也相差甚遠。臭氧是一種可利用的強的氧化劑之一，不僅可使細菌、真菌等菌體中Read more